page_banner

Proses Pengawetan UV & EB

Pengawetan UV & EB biasanya menerangkan penggunaan pancaran elektron (EB), ultraviolet (UV) atau cahaya boleh dilihat untuk mempolimerkan gabungan monomer dan oligomer ke substrat. Bahan UV & EB boleh dirumus menjadi dakwat, salutan, pelekat atau produk lain. Proses ini juga dikenali sebagai pengawetan sinaran atau radcure kerana UV dan EB adalah sumber tenaga pancaran. Sumber tenaga untuk UV atau penawar cahaya kelihatan biasanya lampu merkuri tekanan sederhana, lampu xenon berdenyut, LED atau laser. EB–tidak seperti foton cahaya, yang cenderung untuk diserap terutamanya pada permukaan bahan–mempunyai keupayaan untuk menembusi melalui jirim.
Tiga Sebab Menarik untuk Bertukar kepada Teknologi UV & EB
Penjimatan Tenaga dan Peningkatan Produktiviti: Memandangkan kebanyakan sistem bebas pelarut dan memerlukan pendedahan kurang daripada satu saat, peningkatan produktiviti boleh menjadi luar biasa berbanding teknik salutan konvensional. Kelajuan talian web 1,000 kaki/min. adalah perkara biasa dan produk sedia segera untuk ujian dan penghantaran.

Sesuai untuk Substrat Sensitif: Kebanyakan sistem tidak mengandungi sebarang air atau pelarut. Di samping itu, proses ini menyediakan kawalan penuh terhadap suhu penawar menjadikannya sesuai untuk digunakan pada substrat sensitif haba.

Alam Sekitar dan Mesra Pengguna: Komposisi biasanya bebas pelarut jadi pelepasan dan kemudahbakaran tidak menjadi kebimbangan. Sistem penawar cahaya serasi dengan hampir semua teknik aplikasi dan memerlukan ruang minimum. Lampu UV biasanya boleh dipasang pada barisan pengeluaran sedia ada.

Komposisi Boleh Diubati UV & EB
Monomer adalah blok binaan paling mudah dari mana bahan organik sintetik dibuat. Monomer ringkas yang diperoleh daripada makanan petroleum ialah etilena. Ia diwakili oleh: H2C=CH2. Simbol “=” antara dua unit atau atom karbon mewakili tapak reaktif atau, seperti yang dirujuk oleh ahli kimia, “ikatan berganda” atau tak tepu. Ia adalah tapak seperti ini yang mampu bertindak balas untuk membentuk bahan kimia yang lebih besar atau lebih besar yang dipanggil oligomer dan polimer.

Polimer ialah himpunan banyak (iaitu poli-) unit ulangan bagi monomer yang sama. Istilah oligomer ialah istilah khas yang digunakan untuk menamakan polimer tersebut yang selalunya boleh bertindak balas selanjutnya untuk membentuk gabungan polimer yang besar. Tapak tak tepu pada oligomer dan monomer sahaja tidak akan mengalami tindak balas atau pautan silang.

Dalam kes penyembuhan rasuk elektron, elektron tenaga tinggi berinteraksi secara langsung dengan atom tapak tak tepu untuk menghasilkan molekul yang sangat reaktif. Jika UV atau cahaya kelihatan digunakan sebagai sumber tenaga, photoinitiator ditambah kepada campuran. Photoinitiator, apabila terdedah kepada cahaya, menjana radikal bebas atau tindakan yang memulakan hubungan silang antara tapak tak tepu.ponen UV &ude

Oligomer: Sifat keseluruhan mana-mana salutan, dakwat, pelekat atau pengikat yang dipaut silang oleh tenaga pancaran ditentukan terutamanya oleh oligomer yang digunakan dalam perumusan. Oligomer ialah polimer berat molekul sederhana rendah, kebanyakannya adalah berdasarkan akrilasi struktur yang berbeza. Akrilasi memberikan tak tepu atau kumpulan “C=C” ke hujung oligomer.

Monomer: Monomer digunakan terutamanya sebagai pelarut untuk menurunkan kelikatan bahan yang tidak diawet untuk memudahkan penggunaan. Mereka boleh menjadi monofungsi, mengandungi hanya satu kumpulan reaktif atau tapak tak tepu, atau pelbagai fungsi. Ketidaktepuan ini membolehkan mereka bertindak balas dan dimasukkan ke dalam bahan yang diawet atau siap, dan bukannya meruap ke atmosfera seperti biasa dengan salutan konvensional. Monomer pelbagai fungsi, kerana ia mengandungi dua atau lebih tapak reaktif, membentuk pautan antara molekul oligomer dan monomer lain dalam perumusan.

Photoinitiators:Ramuan ini menyerap cahaya dan bertanggungjawab untuk penghasilan radikal bebas atau tindakan. Radikal bebas atau tindakan adalah spesies tenaga tinggi yang mendorong pertautan silang antara tapak tak tepu monomer, oligomer dan polimer. Photoinitiators tidak diperlukan untuk sistem pengawetan rasuk elektron kerana elektron dapat memulakan pemautan silang.

Aditif: Yang paling biasa ialah penstabil, yang menghalang pengawetan dalam penyimpanan dan pengawetan pramatang kerana tahap pendedahan cahaya yang rendah. Pigmen warna, pewarna, penyahbuih, penggalak lekatan, agen perata, agen pembasahan dan alat bantu gelincir adalah contoh bahan tambahan lain.

Proses Pengawetan UV & EB

Masa siaran: Jan-01-2025