Pengawetan UV & EB biasanya menggambarkan penggunaan pancaran elektron (EB), ultraungu (UV) atau cahaya nampak untuk mempolimerkan gabungan monomer dan oligomer ke atas substrat. Bahan UV & EB boleh diformulasikan menjadi dakwat, salutan, pelekat atau produk lain. Proses ini juga dikenali sebagai pengawetan sinaran atau pengawetan radiasi kerana UV dan EB adalah sumber tenaga sinaran. Sumber tenaga untuk pengawetan UV atau cahaya nampak biasanya lampu merkuri tekanan sederhana, lampu xenon berdenyut, LED atau laser. EB–tidak seperti foton cahaya, yang cenderung diserap terutamanya pada permukaan bahan–mempunyai keupayaan untuk menembusi jirim.
Tiga Sebab Menarik untuk Menukar kepada Teknologi UV & EB
Penjimatan Tenaga dan Peningkatan Produktiviti: Memandangkan kebanyakan sistem bebas pelarut dan memerlukan kurang daripada satu saat pendedahan, peningkatan produktiviti boleh menjadi sangat besar berbanding teknik salutan konvensional. Kelajuan talian web 1,000 kaki/min adalah perkara biasa dan produk sedia untuk diuji dan dihantar serta-merta.
Sesuai untuk Substrat Sensitif: Kebanyakan sistem tidak mengandungi sebarang air atau pelarut. Di samping itu, proses ini menyediakan kawalan penuh terhadap suhu pengawetan menjadikannya sesuai untuk aplikasi pada substrat sensitif haba.
Mesra Alam Sekitar dan Pengguna: Komposisi biasanya bebas pelarut jadi pelepasan dan kemudahbakaran tidak menjadi kebimbangan. Sistem pengawetan cahaya serasi dengan hampir semua teknik aplikasi dan memerlukan ruang yang minimum. Lampu UV biasanya boleh dipasang pada barisan pengeluaran sedia ada.
Komposisi Boleh Diawet UV & EB
Monomer merupakan blok binaan paling ringkas yang digunakan untuk menghasilkan bahan organik sintetik. Monomer ringkas yang diperoleh daripada makanan petroleum ialah etilena. Ia diwakili oleh: H2C=CH2. Simbol “=" antara dua unit atau atom karbon mewakili tapak reaktif atau, seperti yang dirujuk oleh ahli kimia, "ikatan berganda" atau tak tepu. Tapak seperti inilah yang mampu bertindak balas untuk membentuk bahan kimia yang lebih besar atau lebih besar yang dipanggil oligomer dan polimer.
Polimer ialah himpunan banyak unit ulangan (iaitu poli-) bagi monomer yang sama. Istilah oligomer ialah istilah khas yang digunakan untuk merujuk kepada polimer yang selalunya boleh direaksikan selanjutnya untuk membentuk gabungan polimer yang besar. Tapak tak tepu pada oligomer dan monomer sahaja tidak akan mengalami tindak balas atau ikatan silang.
Dalam kes pengawetan pancaran elektron, elektron bertenaga tinggi berinteraksi secara langsung dengan atom tapak tak tepu untuk menghasilkan molekul yang sangat reaktif. Jika cahaya UV atau cahaya nampak digunakan sebagai sumber tenaga, fotoinisiator ditambah ke dalam campuran. Fotoinisiator, apabila terdedah kepada cahaya, menghasilkan radikal bebas atau tindakan yang memulakan penghubung silang antara tapak tak tepu. Komponen UV &
Oligomer: Sifat keseluruhan sebarang salutan, dakwat, pelekat atau pengikat yang diikat silang oleh tenaga sinaran ditentukan terutamanya oleh oligomer yang digunakan dalam formulasi. Oligomer ialah polimer berat molekul yang sederhana rendah, yang kebanyakannya berdasarkan pengkrilatan struktur yang berbeza. Pengkrilatan memberikan kumpulan tak tepu atau "C=C" pada hujung oligomer.
Monomer: Monomer terutamanya digunakan sebagai pencair untuk menurunkan kelikatan bahan yang tidak diawetkan bagi memudahkan aplikasi. Ia boleh menjadi monofungsional, hanya mengandungi satu kumpulan reaktif atau tapak tak tepu, atau berbilang fungsi. Tak tepu ini membolehkannya bertindak balas dan digabungkan ke dalam bahan yang diawetkan atau siap, dan bukannya meruap ke atmosfera seperti yang biasa dilakukan dengan salutan konvensional. Monomer berbilang fungsi, kerana ia mengandungi dua atau lebih tapak reaktif, membentuk hubungan antara molekul oligomer dan monomer lain dalam formulasi.
Fotopemula: Bahan ini menyerap cahaya dan bertanggungjawab untuk penghasilan radikal bebas atau tindakan. Radikal bebas atau tindakan adalah spesies bertenaga tinggi yang mendorong ikatan silang antara tapak tak tepu monomer, oligomer dan polimer. Fotopemula tidak diperlukan untuk sistem pengawetan alur elektron kerana elektron dapat memulakan ikatan silang.
Bahan tambahan: Yang paling biasa ialah penstabil, yang menghalang pengegelan semasa penyimpanan dan pengawetan pramatang disebabkan oleh tahap pendedahan cahaya yang rendah. Pigmen warna, pewarna, penyahbuih, penggalak lekatan, agen perataan, agen pembasahan dan alat bantuan gelinciran adalah contoh bahan tambahan lain.
Masa siaran: 1-Jan-2025
